HemGrupperDiskuteraMerTidsandan
Sök igenom hela webbplatsen
Denna webbplats använder kakor för att fungera optimalt, analysera användarbeteende och för att visa reklam (om du inte är inloggad). Genom att använda LibraryThing intygar du att du har läst och förstått våra Regler och integritetspolicy. All användning av denna webbplats lyder under dessa regler.

Resultat från Google Book Search

Klicka på en bild för att gå till Google Book Search.

Laddar...

Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System (SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology)

av Seiji Samukawa

MedlemmarRecensionerPopularitetGenomsnittligt betygDiskussioner
3Ingen/inga4,093,212Ingen/ingaIngen/inga
This book provides for the first time a good understanding of the etching profile technologies that do not disturb the plasma. Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data. Readers are made familiar with these sensors, which can measure real plasma process surface conditions such as defect generations due to UV-irradiation, ion flight direction due to charge-up voltage in high-aspect ratio structures and ion sheath conditions at the plasma/surface interface. The plasma etching profile realistically predicted by a computer simulation based on output data from these sensors is described.… (mer)
Senast inlagd avelmanu
Ingen/inga
Laddar...

Gå med i LibraryThing för att få reda på om du skulle tycka om den här boken.

Det finns inga diskussioner på LibraryThing om den här boken.

Inga recensioner
inga recensioner | lägg till en recension

Ingår i förlagsserien

SpringerBriefs (Applied Sciences and Technology)
Du måste logga in för att ändra Allmänna fakta.
Mer hjälp finns på hjälpsidan för Allmänna fakta.
Vedertagen titel
Originaltitel
Alternativa titlar
Första utgivningsdatum
Personer/gestalter
Viktiga platser
Viktiga händelser
Relaterade filmer
Motto
Dedikation
Inledande ord
Citat
Avslutande ord
Särskiljningsnotis
Förlagets redaktörer
På omslaget citeras
Ursprungsspråk
Kanonisk DDC/MDS
Kanonisk LCC

Hänvisningar till detta verk hos externa resurser.

Wikipedia på engelska

Ingen/inga

This book provides for the first time a good understanding of the etching profile technologies that do not disturb the plasma. Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data. Readers are made familiar with these sensors, which can measure real plasma process surface conditions such as defect generations due to UV-irradiation, ion flight direction due to charge-up voltage in high-aspect ratio structures and ion sheath conditions at the plasma/surface interface. The plasma etching profile realistically predicted by a computer simulation based on output data from these sensors is described.

Inga biblioteksbeskrivningar kunde hittas.

Bokbeskrivning
Haiku-sammanfattning

Pågående diskussioner

Ingen/inga

Populära omslag

Snabblänkar

Betyg

Medelbetyg: Inga betyg.

Är det här du?

Bli LibraryThing-författare.

 

Om | Kontakt | LibraryThing.com | Sekretess/Villkor | Hjälp/Vanliga frågor | Blogg | Butik | APIs | TinyCat | Efterlämnade bibliotek | Förhandsrecensenter | Allmänna fakta | 203,198,087 böcker! | Topplisten: Alltid synlig